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連續線式磁控濺射真空鍍膜設備生產線
【簡單介紹】
【詳細說明】
連續線式磁控濺射真空鍍膜設備生產線主要用于在平板玻璃、壓克力、PC、PET等表面鍍制高質量、高性能金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射(AR)、增反射膜,LOW-E等膜層。本公司可按用戶要求提供設計,提供全套設備,負責工藝,按交“鑰匙”工程服務。
設備特點:
1.設備采用真空磁控濺射技術,孿生陰極,中頻濺射技術,并配以*的控制系統 。
2.生產過程全部自動,連續進行。被鍍工件加熱溫度zui高可達350℃,溫度分區控制可調。
3.真空室材料采用SUS304,真空室內壁進行拋光處理,外壁采用拋光后噴漆處理。
4.真空室之間采用獨立門閥隔開,我們設計的是插板閥,可以有效隔斷,穩定工藝氣體。傳動采用磁導向,保障傳動的穩定性。整條生產線的各段速度采用變頻調速電機驅動,運行速度可調節。
5.電氣控制系統:觸摸屏與PLC自動控制,人機對話方式來實現系統的數據顯示、操作與控制。
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