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SX-80等離子噴靶材鉻靶、鈦靶、硅鋁靶設備
- 公司名稱：
- 更新時間：
- 所 在 地：
- 生產地址：
- 瀏覽次數：
- 廣州三鑫金屬科技有限公司
- 2018-05-26 00:58:26
- 廣州市
- 廣州市番禺區南村東順工業園
- 1158
【簡單介紹】
【詳細說明】
等離子噴靶材鉻靶、鈦靶、硅鋁靶設備
供應生產線--鍍膜靶材噴涂及*的制造設備技術
生產線---鍍膜靶材噴涂及制造設備技術特點：
應用于玻璃鍍膜（建筑玻璃和汽車玻璃）工業
產品遠銷東南亞等地與廣大客戶建立了良好的合作關系。優良的產品質量和及時的服務為企業贏得了良好的口碑。
應用于玻璃鍍膜（建筑玻璃和汽車玻璃）工業
產品遠銷東南亞等地與廣大客戶建立了良好的合作關系。優良的產品質量和及時的服務為企業贏得了良好的口碑。
目前常用的有電子回旋共振（ECR）型微波等離子體濺射。
磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，較之較早點的蒸發鍍膜方式，其很多方面的優勢相當明顯。作為一項已經發展的較為成熟的技術，磁控濺射已經被應用于許多領域。
磁控濺射原理：在被濺射的靶極（陰極）與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體（通常為Ar氣），*磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時還司進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻
生產線---鍍膜靶材噴涂及制造設備技術構成：
采用等離子噴涂 （提供SX~R全自動噴砂設備、SX~30KW全自動噴涂設備、系列配置靶材噴涂硅鋁粉制設備及工藝、噴涂房配置設計等*方案）
生產線---鍍膜靶材噴涂及制造設備技術應用領域：
本公司采用等離子噴涂生產靶的方法，專業研發、生產和銷售真空磁控濺射靶材，應用于玻璃鍍膜（建筑玻璃和汽車玻璃）工業等行業，主要靶材包括：鉻靶、鈦靶、硅鋁靶等，本公司可根據客戶要求研發出能滿足客戶要求的各種靶材噴涂制造技術并提供：
本公司采用等離子噴涂生產靶的方法，專業研發、生產和銷售真空磁控濺射靶材，應用于玻璃鍍膜（建筑玻璃和汽車玻璃）工業等行業，主要靶材包括：鉻靶、鈦靶、硅鋁靶等，本公司可根據客戶要求研發出能滿足客戶要求的各種靶材噴涂制造技術并提供：
*鉻靶、鈦靶、硅鋁靶的噴涂制造技術方案
*鉻靶、鈦靶、硅鋁靶的噴涂工藝和參數
*鉻靶、鈦靶、硅鋁靶的噴涂技術工人培訓
*靶材等離子噴涂制造的生產線交鑰匙工程
*管靶噴涂制造的各種工裝、夾具的設計和加工
*靶材等離子噴涂粉的選型、配比、制粉工藝
*靶材等離子噴涂制粉設備交鑰匙工程
生產線---鍍膜靶材噴涂及制造設備技術加工系列：
磁控濺射鍍膜靶材：金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶瓷濺射靶材，碲化物陶瓷濺射靶材，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化銦靶材（InP），砷化鉛靶材（PbAs），砷化銦靶材（InAs）。
高純高密度建設靶材有：濺射靶材（純度：99.9%-99.999%）
金屬靶材：鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。
服務與質量承諾：
一、靶材等離子噴涂制粉設備交鑰匙工程
二、靶材等離子噴涂粉的選型、配比、制粉工藝
1、設備安裝調試與操作人員培訓。設備設有質量的安全保用期.
2、我們的質量方針是：“以滿意的產品，真誠的服務，鮮明的特色，滿足顧客的需求”。
3、企業設有完善的售前售中售后的服務體系，公司還提供保用期后的保養、維修等服務（只收取相應之成本費用）。
4、我們將為您提供熱情準確及時到位的服務，努力滿足和超越您的期望與需求。請及時與我們。
