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IKN 研磨分散機采用德國博格曼雙端面機械密封，在保證冷卻水的前提下，可24小時連續運行。而普通乳化機很難做到連續長時間的運行，并且普通乳化機不能承受高轉速的運行。
半導體性單壁碳納米管作為一維納米材料，重量輕，結構連接*，具有許多異常的力學、電學和化學性能。近些年隨著碳納米管及納米材料研究的深入其廣闊的應用前景也不斷地展現出來。
半導體性碳納米管溶液性質
直徑：1.2nm-1.7nm
長度：300nm-5μm
金屬雜質：<1%
無定型碳：1-5%
半導體性碳納米管溶液應用
復合材料，電子器件，熒光標記
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半導體性碳納米管溶液制備難點
目前制備碳納米管的方法很多,然而這些方法所制得的產物中除碳納米管外常常還含有無定形碳、碳納米粒子及催化劑顆粒等雜質,這些雜質的存在直接影響到碳納米管的性能測試及其應用研究,因此碳納米管的純化研究十分必要與重要。而不同制備方法所得碳納米管的性質以及所引入的雜質都不相同,這就增加了碳納米管純化研究的難度。上海IKN/依肯公司結合該領域研究前沿對碳納米管的制備方法做了深入研究，根據以往實驗經驗*使用IKN碳納米管溶液膠體磨。
半導體性碳納米管溶液研磨機設備介紹：
IKN研磨機在碳納米管導分散中有著突出的優勢，IKN研磨機是將膠體磨和分散機合二為一的設備，先研磨后分散，可以將碳納米管充分、均勻的分散到溶劑或樹脂當中，避免團聚，分散更均勻、穩定。
半導體性碳納米管溶液研磨分散機是膠體磨（研磨機）和分散機組合而成的高科技產品。初級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。
從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：
1.研磨頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）
5.循環次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）
線速度的計算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60
所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
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