超純水設備，是指采用某種合適的工藝，制備出符合某種產品用水的設備，其水中的導電介質幾乎*去除，同時不離解的氣體、膠體以及有機物（包括細菌）也去除至很低程度的水。其電導率一般為0.1~0.055uS/cm，電阻率（25℃）＞10MΩ?cm ，含鹽量＜0.1㎎/L.理想純水(理論上)電導率為

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超純水設備，是指采用某種合適的工藝，制備出符合某種產品用水的設備，其水中的導電介質幾乎*去除，同時不離解的氣體、膠體以及有機物（包括細菌）也去除至很低程度的水。其電導率一般為0.1~0.055uS/cm，電阻率（25℃）＞10MΩ•cm ，含鹽量＜0.1㎎/L.理想純水（理論上）電導率為0.055 uS/cm，電阻率（25℃）為18.3MΩ•cm。常見在半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。由于超純水的制備要求較高，現今市場上能夠制備出此種水質的原料也較少，其主要工藝可分為如下兩種方式，以下就對常見的超純水設備工藝的性能特點及主要工藝流程做簡要的概述：

超純水設備的性能特點及主要工藝流程

　1、傳統工藝：自來水→砂濾器→碳濾器→軟水器→保安過濾器→一級反滲透→混合床
　此種工藝為較早的制備超純水的工藝，其出水水質可達到15-18MΩ•cm，多年來在諸多的使用者中已熟練應用，同時又有低廉的初期制作成本，因此在較多的人眼中，超純水設備即為此種傳統工藝設備；但其也擁有不足的地方，如：混床的再生需使用酸、堿，在再生的途中又不可連續制水，此時就帶來了運行費用的增加、操作人員的壓力及熟練程度加強、對于需連續造水的用戶需備混床，現場再生完的污水的排放又帶來了“環保”的問題，以上諸點因素現實使用者帶去了思考。
　2、新進工藝：自來水→砂濾器→碳濾器→軟水器→保安過濾器→一級反滲透→二級反滲透→EDI裝置→拋光混床→精密過濾器
　此種工藝為近些年新起的一種，環保、高較的超純水制備工藝，在短短數年時間內已被諸多的使用者接受，并使用于真實案例中，其與傳統工藝的區別主要在于EDI裝置部份，在些，要想更多的了解此套工藝，需先對EDI進行述說：
　電去離子（Electrodeionization）簡稱EDI，是一種將離子交換技術，離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術。屬高科技綠色環保技術。EDI凈水設備具有連續出水、無需酸堿再生和無人值守等優點，已在制備純水的系統中逐步代替混床作為精處理設備使用。這種*技術的環保特性好，操作使用簡便，愈來愈多地被人們所認可，也愈來愈多廣泛地在醫藥、電子、電力、化工等行業得到推廣。

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